IWAPS 2023 | 第七届国际先进光刻技术研讨会举办时间通知

近年来，集成电路产业已经成为世界各国越来越重视的战略性产业，尤其在中国，集成电路产业受到了前所未有的关注，并在政策和资本的推动下获得了蓬勃发展。基于这样的形势，国际先进光刻技术研讨会(International Workshop on Advanced Patterning Solutions, IWAPS)应运而生。IWAPS为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台，参会者可以就材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等主题分享各自的研究成果，探讨图形化解决方案，研讨即将面临的技术挑战。

自2017年以来，IWAPS已经在全国各地成功举办六届。会议投稿、会议报告与参会人数逐年增加，行业反响热烈，业已成为国内高端光刻技术领域的重要会议。此外，IWAPS自2020年起已被IEEE收录，接收论文将被送检IEEE Xplore与EI。欢迎大家踊跃报名、投稿！

第七届IWAPS将于2023年10月26-27日于浙江丽水举行

(资料图片)

欢迎各位学术和产业届的朋友莅临指导，积极投稿演讲

参会名额有限，有意者请及时报名参会

官网报名链接：

https://www.iwaps.org/cn/index/10

（点击阅读原文可跳转链接）

扫码报名

手机扫描二维码，通过邀请函报名

-主办单位-

中国集成电路

创新联盟

中国光学学会

-承办单位-

中国科学院微电子研究所

-协办单位-

丽水经济技术开发区

管理委员会

浙江富浙资本

管理有限公司

广东省大湾区集成电路与系统应用研究院

南京诚芯集成电路技术研究院

-往届精彩回顾-

IWAPS 2017 北京

链接：首届国际先进光刻技术研讨会胜利闭幕

IWAPS 2018 厦门

链接：第二届国际先进光刻技术研讨会胜利闭幕

IWAPS 2019 南京

链接：第三届国际先进光刻技术研讨会在南京开幕

IWAPS 2020 成都

链接：第四届国际先进光刻技术研讨会在成都开幕

IWAPS 2021 佛山

链接：第五届国际先进光刻技术研讨会在广东佛山开幕

IWAPS 2022 北京 线上

链接：第六届国际先进光刻技术研讨会顺利闭幕

-征稿范围-

i. Optical Lithography

ii. Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography

iii. Advanced Patterning Technologies

iv. Metrology, Inspection and Testing

v. Design and Technology Co-optimization and Design for Manufacturability

vi. Materials

vii. Process

-往年论文集-

IWAPS 2020：

https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9286788/proceeding

IWAPS 2021：https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9670881/proceeding

IWAPS 2022:

https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9971792/proceeding

IWAPS 2023 会议筹备工作已经展开

更多信息，敬请关注会议官网

www.iwaps.org/cn

（请复制链接后在浏览器中打开）

以及“光刻人的世界”微信公众号

我们会随时更新

官网报名链接：

https://www.iwaps.org/cn/index/10

（点击阅读原文可跳转链接）

扫码报名

手机扫描二维码，通过邀请函报名